現像液はTMAH 25%を超純水で2.38％に希釈して生成します。この製品はTOKからの委託で長春が製造したもので、現像液に添加する乳化剤はTOKが特別に配合したものです。
ポジ型フォトレジストの現像剤。半導体のリソグラフィー工程の現像に使用。
お客様のリソグラフィー工程における清浄度の要求に応じて製造します。当社までお問い合わせください。
