氫氧化四甲銨(TMAH 25%)

TETRAMETHYL AMMONIUM HYDROXIDE (ELECTRONIC GRADE DEVELOPER FOR SEMICONDUCTOR & LCD)

長春為台灣最早及最大氫氧化四甲銨(TMAH)之製造商,25% TMAH主要客戶為台灣知名之TFT-LCD廠外,同時也是台灣半導體廠所使用的2.38%顯影劑之原料。

顯影劑

主要應用於IC及LCD製造之顯影製程。

剝離劑

作為Stripper之配方原料。

清洗劑

作為面板廠玻璃清洗劑之配方原料。

IC或LCD用電子級規格

依客戶製程所需可檢討配合,請洽業務人員。